Вольфрамовый порошок ПВ-2

Ультрадисперсный вольфрамовый порошок (менее 1 мкм) обладает высокой удельной поверхностью и большим количеством активных центров, что значительно повышает его каталитическую активность. Это позволяет использовать его в качестве эффективного катализатора в различных химических реакциях, например, в процессах гидрогенизации и дегидрогенизации.

Для создания прессованных изделий с высокой прочностью рекомендуется выбирать вольфрамовый порошок марок ВП-1,7 или ВП-2,7, которые обеспечивают оптимальное сочетание дисперсности и спекаемости. Это позволяет получать изделия с плотной, мелкозернистой структурой и высокими механическими характеристиками.

Для создания компонентов космической техники оптимален вольфрамовый порошок высокой чистоты, с контролируемой дисперсностью и однородным гранулометрическим составом. Это обеспечивает получение деталей с высокой плотностью, жаропрочностью и стойкостью к радиации и экстремальным температурам.

К вольфрамовому порошку для использования в электронике предъявляются высокие требования к чистоте, в частности, низкое содержание щелочных металлов, галогенов, кислорода и других элементов, которые могут негативно влиять на электрические свойства и стабильность полупроводниковых приборов.

Содержание углерода в вольфрамовом порошке крайне важно для образования карбидов вольфрама (WC, W2C). Избыток или недостаток углерода может привести к образованию нежелательных фаз или свободных фаз вольфрама или углерода, что ухудшает механические свойства и стабильность карбида.

Вольфрамовый порошок обладает высокой стойкостью к воздействию расплавленных металлов, таких как медь, серебро, олово, свинец, при умеренных температурах. Это делает его подходящим для изготовления тиглей, электродов и компонентов, контактирующих с жидкими металлами.

Вольфрамовый порошок ВП-МП (мелкодисперсный) при высоких температурах в восстановительной атмосфере (например, водороде) демонстрирует высокую стабильность и реакционную способность. Водород предотвращает окисление и способствует удалению остаточных оксидов, что приводит к получению чистой, активированной поверхности частиц.